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2026-08
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广州反应磁控溅射用途 广东省科学院半导体研究所供应
广东省科学院半导体研究所在高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术的国产化应用中取得突破。其开发的HiPIMS系统峰值功率密度达到10⁷W/m²，使金属靶材的离化率提升至70%以上，制备的（Cr,Al）N涂层硬度较传统直流磁控溅射提
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2026-08
星期
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广州单靶磁控溅射用处 广东省科学院半导体研究所供应
该研究所将磁控溅射技术应用于太阳能电池的效率提升，开发了新型减反射与背场薄膜制备工艺。采用中频闭场不平衡磁控溅射技术，在晶硅电池表面沉积SiNx减反射膜，通过调控薄膜厚度与折射率，使电池光吸收率提升8%。同时，利用直流磁控溅射制备
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2026-08
星期
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广州射频磁控溅射步骤 广东省科学院半导体研究所供应
高均匀性的磁控溅射加工是针对薄膜厚度和成分均匀分布提出的工艺要求。实现这一目标需在设备设计和工艺参数调控上下功夫。磁控溅射的物理过程涉及入射粒子与靶材的多次碰撞，形成靶原子的溅射运动。通过优化磁场的布局与靶材的运动轨迹，能够均匀分
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2026-08
星期 六
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广州双靶磁控溅射平台 广东省科学院半导体研究所供应
半导体基片磁控溅射工艺涉及将高能粒子撞击固定的高纯度靶材，通过物理过程使靶材原子从靶表面释放出来，沉积于半导体基片表面形成薄膜。这一过程的关键在于入射粒子与靶原子之间的复杂碰撞和动量传递，形成级联效应，使得部分靶原子获得足够能量离
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2026-08
星期 六
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广州直流磁控溅射 广东省科学院半导体研究所供应
相较于电弧离子镀膜和真空蒸发镀膜等技术，磁控溅射镀膜技术制备的膜层组织更加细密，粗大的熔滴颗粒较少。这是因为磁控溅射过程中，溅射出的原子或分子具有较高的能量，能够更均匀地沉积在基材表面，形成致密的薄膜结构。这种细密的膜层结构有助于
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